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CHEMICAL VAPOR DEPOSITION

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ジャーナル プロフィール
ジャーナル タイトルCHEMICAL VAPOR DEPOSITION CHEMICAL VAPOR DEPOSITION

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LetPub Score
3.4
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Reputation
4.2

Influence
2.0

Speed
7.0

ジャーナルの略称CHEM VAPOR DEPOS
ISSN0948-1907
h-indexN.A.
CiteScoreN.A.
自己引用率 (2023-2024)N.A.自己引用率トレンド
掲載範囲
公式サイトhttp://onlinelibrary.wiley.com/journal/10.1002/(ISSN)1521-3862
オンライン原稿提出
オープンアクセスNo
出版社
主題分野工学
出版国/地域GERMANY
発行頻度隔月刊行
発行開始年0
年間記事数0年間記事数トレンド
ゴールド OA 割合0.00%
Web of Science 四分位
2023-2024
WOS Quartile: Q0

N/A
インデックス (SCI or SCIE)
PubMed Central (PMC) へのリンクhttps://www.ncbi.nlm.nih.gov/nlmcatalog?term=0948-1907%5BISSN%5D
平均査読期間 *出版社からの許可を得たデータ:
著者からのデータ: >12 Week(s), or Invited contributions
競争力 *著者からのデータ: Easy
参考になるリンク
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著者のコメント
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    CHEMICAL VAPOR DEPOSITION CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
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  [CHEMICAL VAPOR DEPOSITION] のレビューレビューを書く
著者: 匿名


分野: 工学
査読期間: 0.0 month(s)
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2013-06-19 16:20:00 レビューした
原稿を提出した後、いつでもエルゼビアのようにステータスを確認することができます。 このWilkeyシステムは、ただ待つだけです
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